第426章 深紫深渊（1 / 2）
江州，启明防务技术研究院，红区PFL实验室。
这里是整个集团保密等级最高的区域，门口站着两名荷枪实弹的哨兵。
实验室内，一个被铅板严密包裹的保险箱被缓缓打开。
在那里面，躺着一块仅有指甲盖大小、呈现出淡紫色的透明晶体。
这就是KBBF氟硼铍酸钾。中国独有的战略资源，全球唯一能直接倍频产生深紫外激光的非线性晶体。
“这就是我们要的心脏。”
李振声教授戴着防静电手套，小心翼翼地将其夹起，放入显微镜下。
“但是林董，有个大麻烦。”
李振声指着显示屏上的晶体侧面图。
“KBBF是层状结构，像云母一样。层与层之间结合力极弱。一旦我们试图用传统的抛光机去磨它，它就会像书本一样散架。”
“而且，它含有剧毒的铍元素。加工产生的粉尘如果被吸入，会引起铍肺病。没有专门的负压加工中心，没人敢动它。”
“最要命的是，”王海冰在一旁补充道，“要产生193n的深紫外光，我们需要用四倍频技术。也就是把基频激光的波长压缩四次。”
“这意味着，这块小小的晶体，要承受极高的能量密度。如果表面有一点点划痕或杂质，激光瞬间就会把它打穿，变成一堆废粉。”
“我们需要原子级的表面平整度，国内的光学加工厂，做不到。”
林远看着那块脆弱而致命的晶体。
“既然磨不了，那就粘。”
“棱镜耦合技术。”
这是中国科学家陈创天院士当年的独门绝技。
“我们不直接磨KBBF。我们将它夹在两块高精度的石英棱镜中间，利用光胶技术，靠分子间作用力让它们死死粘在一起。”
“然后，我们磨石英，不磨晶体。”
“这需要极高的手工技艺。”林远看向王海冰，“去把中科院福建物构所的老师傅请来。这种手艺活，机器干不了，人能干。”
解决了晶体的固定，真正的噩梦才刚刚开始。
光学系统，不仅要有透镜，还要有“膜”。
增透膜、高反膜。没有膜，激光会在界面上反射、损耗，甚至形成鬼影。
对于193n的深紫外光来说，镀膜是地狱级难度。
“林董，”负责光学工艺的张教授拿着一份报告，脸色灰败。
“我们用国产的电子束蒸发镀膜机，试镀了十次。全部失败。”
“为什么？”
“致密度不够。”
张教授解释道：“电子束蒸发的膜层，微观上是柱状结构，中间有空隙。水分子会钻进去。在193n的高能光子轰击下，水分子会电离，产生氢氧根，导致膜层迅速老化、吸收增加。”
“吸收增加意味着什么？”
“意味着发热。接着就是激光诱导损伤。”
张教授拿出一片废弃的镜片。镜片中心，有一个明显的黑色烧蚀坑。
“只要开机十分钟，膜就会烧穿。”
“我们需要离子束溅射镀膜机。”张教授断言，“只有IBS打出来的膜，才是非晶态的、致密的、无针孔的。”
“但是，IBS设备被美国列在瓦森纳协定的核心禁运名单里。Vee和OxfordInstrunts，绝对不会卖给我们。”
这是一个死循环。
要搞深紫外计算-＞必须要有高损伤阈值的膜-＞必须要有IBS设备-＞买不到。
“能不能自己造IBS？”林远问。
“原理我们懂。但是，核心的射频离子源，需要极其精密的磁场约束和栅极加工。国内的离子源，束流不稳定，打出来的膜厚度不均匀。”张教授摇头。
林远沉默了。
没有设备，巧妇难为无米之炊。
“既然物理镀膜走不通……”
林远盯着那个烧蚀的黑点。
“那我们就用化学。”
“ALD原子层沉积。”
林远看向李振声。
“我们在普罗米修斯计划里，不是搞到了TDMAT的前驱体工艺吗？那是用来做半导体栅极的。”
“现在，我要你们把ALD技术，用到光学镀膜上！”
“ALD是一层一层原子长的。它的致密度，比IBS还要高！”
“但是，”张教授犹豫道，“ALD太慢了。长一微米要几天。而且，ALD可用的光学材料太少，折射率匹配很难。”
“那就做混合膜系。”
林远在白板上画了一个三明治结构。
“底层：用国产电子束镀膜，做厚度。”
“表层：用ALD镀一层50纳米的致密保护层，做封孔！”
“就像给疏松的墙面，刷一层防水漆。”
“只要水分子进不去，LIDT阈值就能提上来！”
这是一个典型的“土法炼钢”思路，用两种低端工艺的组合，去逼近高端工艺的效果。
方案确定，立刻执行。
经过两周的折腾，第一批采用E-bea+ALD复合工艺的镜片下线了。
上机测试。
激光器启动。波长193n，功率10W。
十分钟过去了。膜没破。
三十分钟过去了。膜依然完好。
“成功了！”张教授激动得握紧了拳头。
但是，负责算法的汪韬，却皱起了眉头。
“不对。光斑散了。”
屏幕上，原本应该汇聚成一个针尖大小的焦点，此刻却变成了一个模糊的光晕。
“焦距漂移了。”汪韬看着数据，“漂移了整整2毫米。这对于纳米级的光刻计算来说，误差是致命的。”
“为什么会漂移？”林远问。
“热透镜效应。”李振声教授叹了口气。
“虽然膜没破，但它依然有微弱的吸收。吸收产生热量。”
“镜片受热，中间膨胀，折射率发生变化。原本的平光镜，变成了一个凸透镜。”
“而且，这个效应是动态的。功率越高，透镜效应越强。焦点就跑得越远。”