第518章 有数了（2 / 2）

请关闭浏览器的阅读/畅读/小说模式并且关闭广告屏蔽过滤功能，避免出现内容无法显示或者段落错乱。

“肖教授，这边请。”

付培侧身引路，一行人在他的带领下走进了FEL-3000的总装车间。

车间里恒温恒湿，超净环境的气流从头灯送风单元匀速压下，空气里弥漫着精密机械特有的冷冽金属味。

FEL-3000的整机被半透明的防静电罩覆盖着，只露出了核心工作区的观察窗。

透过观察窗可以看到环形排列的自由电子激光器阵列，每台激光器的出射口都连着独立的光程补偿器和波前整形器，光束经过物镜系统汇聚到工件台上的晶圆表面。

整个系统在运转的时候几乎听不到传统光刻机那种沉重的机械噪音，只有自由电子激光器发出的极细微的高频脉冲声，以及工件台在气浮导轨上匀速滑行时偶尔发出的一两声极轻微的换向摩擦音。

付培一边走一边介绍，语速不紧不慢，但是在提到核心技术指标的时候明显加重了语气：

“目前我们的FEL-3000在稳定工况下，单次曝光分辨率已经稳定在13纳米了，套刻精度也做到了3纳米以内，产率每小时250片以上。

而自由电子激光器阵列的波前相干合成效率则达到了百分之九十五，单个光源的波长可以从深紫外一路连续调谐到软X射线波段。

这套架构的扩展性也很好，下一步如果继续优化激光器阵列的排布拓扑和波前控制算法的话，分辨率还有进一步下探的空间。”

肖宿听着付培的介绍，目光从自由电子激光器阵列扫到物镜系统，再从工件台的位移监测界面上一一扫过，偶尔微微点一下头。

这些数据确实比上次看到的时候好了很多。

FEL-3000的波前相干合成效率做到百分之九十五，说明谱域对消框架在光刻系统中的应用是成功的。

而套刻精度压到3纳米以内，也说明全局协同优化框架把光源、物镜、工件台三个子系统的耦合误差控制得很好。

这些数据放在全球任何一家光刻机制造商那里，都足够开一场庆功宴了。

不过对于肖宿来说，这些还不够。

正如他之前所想的那样，光刻机的突破不等于量子芯片的突破。

FEL-3000的芯片工艺确实能把线宽做到十几纳米级别，这个精度对传统集成电路来说是够用的，甚至可以说是过剩的。

但是，对于量子芯片来说，关键指标不是线宽，而是超导薄膜的界面缺陷密度、约瑟夫森结的隧穿势垒均匀性、以及量子比特和周围环境的电磁隔离度。

这些指标就目前来看高长平他们是明显做不到的，所以肖宿还需要从材料制备到器件加工的整条工艺链做针对性的优化，仅仅靠一台先进的光刻机是解决不了所有问题的。

了解完所有情况，肖宿心里有数了。